利用光的衍射現(xiàn)象，即大顆粒產(chǎn)生的衍射角小，小顆粒產(chǎn)生的衍射角大，通過計算檢測器上收集到的不同

衍射圖形的光強分布，來給出顆粒的粒度大小和粒度分布。

新帕泰克公司激光粒度儀的光路采用平行光路設(shè)計

根據(jù)在多元檢測器上得到的衍射光強的分布，通過顆粒大小和光強分布之間的相關(guān)公式來計算得到顆粒的

粒度分布。

在實際測量中，不同形貌的顆粒所產(chǎn)生的衍射圖形是不一樣的。檢測器上所得到的不同光強分布的衍射圖

形，已包含了真實顆粒的大小和其形狀的信息：

平行光照射在一個球形顆粒上會產(chǎn)生以下幾種物理現(xiàn)象：衍射、吸收、折射、反射。

樣品輸出

樣品輸入

傅立葉鏡頭

多元檢測器

測試區(qū)域

激光擴束器

激光光源

θ

α

β

refraction

reflection

diffraction

particle

absorption

Fraunhofer

(no parameters)

laser light

Mie theory

x

(n-ik necessary)

顆粒大小和光強分布之間的關(guān)系：

嚴格的光散射電磁場理論利用光的電磁波性質(zhì)，應(yīng)用麥克斯韋方程對散射顆粒形成的邊界條件求解，可以

得到各個光散射物理量。但是嚴格解法受到許多限制，對于一些復(fù)雜問題，如相關(guān)散射、復(fù)散射、非球形

顆粒等，

至今尚難以給出的結(jié)果。

Mie

理論是對處于均勻介質(zhì)中的各向均勻同性的單個介質(zhì)球在單色平

行光照射下的麥克斯韋方程邊界條件的嚴格數(shù)學(xué)解，它是物理光學(xué)的一個重要的分支。

（摘自《顆粒粒徑的

光學(xué)測量技術(shù)及應(yīng)用》－王乃寧等編著，原子能出版社）

。

新帕泰克公司的激光粒度儀符合標準

ISO13320

，

在進行數(shù)據(jù)處理時，

根據(jù)被測物料所滿足的條件，

可選擇

Fraunhofer

衍射理論或

Mie

散射理論進行處理。

德國新帕泰克激光粒度儀采用模塊化設(shè)計，根據(jù)對不同物料測試的需要，將不同的測試系統(tǒng)（如光學(xué)系統(tǒng)）

和不同的分散系統(tǒng)相結(jié)合，得到適合測試不同物料的粒度儀。

一臺完整的通常由光學(xué)系統(tǒng)、分散系統(tǒng)、數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)和進樣系統(tǒng)組成。

光學(xué)系統(tǒng)

：

HELOS/BF

系列

：

適用量程范圍

   0.1-875

微米

off-/at-line 

HELOS/KF

系列

：

適用量程范圍

   0.1-8750

微米

off-/at-line 

HELOS/VARIO

系列

：

適用量程范圍

    0.5-8750

微米

off-/at-line 

MYTOS

系列

：

適用量程范圍

   0.25-3500

微米

        on-/in-line 

分散系統(tǒng)

：

干法分散系統(tǒng)

：

 RODOS

、

RODOS/M

、

GRADIS

、

MEGARADIS 

干濕二合一分散系統(tǒng)

：

 OASIS 

濕法分散系統(tǒng)

：

 QUIXEL

、

SUCELL

、

CUVETTE 

氣霧劑分散系統(tǒng)

：

 SPRAYER

、

INHALER 

數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)：

數(shù)據(jù)收集和處理軟件：

 WINDOX

、

QT

、

MIE

、

REMO&PARA

、

DV

、

QX-BASE

、

QX-PRO 

進樣系統(tǒng)：

干法進樣系統(tǒng)

：

 VIBRI

、

ASPRIROS

、

TWISTER

、

ROPRON

、

INCELL 

濕法進樣系統(tǒng)

：

 SAFIR 

應(yīng)用領(lǐng)域

:

粉末冶金、硬質(zhì)合金、稀土、磁性材料、石油、化工、制藥、陶瓷、磨料、水泥、電力、電池、

能源、航空、軍工、涂料、油墨、顏料、造紙、地質(zhì)、水文、非金屬礦、礦物加工、食品、化